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真空鍍膜系統 > 自動預載系統 |PRODUCTS
| 多腔式鍍膜系統 |
| 以預載腔體放置或取出被鍍物，並在各個真空腔體中完成所需製程，以隔絕大氣污染。 |
規格
1．2"~6"濺射源
2．極限真空度：10-7 Torr
3．APC自動控壓系統
4．質量流量控制器
5．DC/DC PULSE/HIPIMS/MF/RF/電源供應器
6．RF/DC 偏壓
7．基座旋轉加熱系統
8．ION SOURCE CLEAN SYSTEM 離子轟擊系統
9．離子助鍍系統
10．OES監測系統
11．膜厚控制器
12．多靶蒸鍍系統
13．E-BEAM
14．高真空機械手臂
2．極限真空度：10-7 Torr
3．APC自動控壓系統
4．質量流量控制器
5．DC/DC PULSE/HIPIMS/MF/RF/電源供應器
6．RF/DC 偏壓
7．基座旋轉加熱系統
8．ION SOURCE CLEAN SYSTEM 離子轟擊系統
9．離子助鍍系統
10．OES監測系統
11．膜厚控制器
12．多靶蒸鍍系統
13．E-BEAM
14．高真空機械手臂